苏州STR首届研讨会邀您前来!
苏州STR China 2023
研讨会
2023年11月25日(星期六)
我司诚挚邀请各位参会交流!
01 研讨会简介/Seminar Introduction
苏州思体尔软件科技有限公司作为STR中国全资子公司,为中国市场企业、高校、研究院所等客户,在晶体生长、外延、LED、半导体器件等专业领域提供定制化模拟仿真软件授权、项目合作和技术咨询服务。
为了促进我司与行业内领先企业、高校、科研院所进行最新产品技术的合作与交流,我司将邀请业界各位同仁参加2023年11月25日第一届STR China Seminar(苏州思体尔软件科技有限公司研讨会)。
此次研讨会汇集了我司数名总部权威专家学者,聚集我司最新产品研发技术进展、前沿方向以及行业内最新趋势等热点,并将共同推动半导体行业技术领域高质量发展。
02 研讨会时间、地点/Time、Place
★ 报到时间:2023.11.25(星期六)8:30-9:00
★ 会议时间:2023.11.25(星期六)9:30-17:00
★ 会议地点:苏州市工业园区苏州独墅湖世尊酒店一楼报告厅(Worldhotel Grand Dushu Lake Suzhou)
03 研讨会组织/Organization
主办方:苏州思体尔软件科技有限公司(Suzhou STR Software Technology CO.,Ltd.)
04 参会费用/Participation Fees
我司本届研讨会不收取任何会议费用,其他交通费、住宿费需自理。
05 演讲嘉宾/Guest speaker
1.Dr.Vladimir Kalaev
2.Dr.Roman Talalaev
3.Dr.Alexey Kulik
4.Dr.Anton Kobelev
06 研讨会日程/Seminar Agenda
上午:一楼报告厅
①.8:00-9:00
(参会人员现场集合签到)
②.9:00-9:25
(主持人开场并介绍演讲嘉宾,苏州STR CEO Maria Lambrinaki致辞)
③.9:25-10:05
(演讲主题:New model of silicon crystal growth under CUSP magnetic field)—— 报告人:Dr.Vladimir Kalaev
④.10:05-10:45
(演讲主题:Application of AI for predictive modeling of Si Cz technology)—— 报告人:Dr.Vladimir Kalaev
⑤.10:45-11:05
⑥.11:05-11:45
(演讲主题:Key factors affecting uniformity in 300 mm silicon epitaxy)—— 报告人:Dr.Roman Talalaev
⑦.11:45-12:25
(演讲主题:Overview in modeling of PVT and HTCVD SiC technology)—— 报告人:Dr.Alexey Kulik
⑧.12:25-13:55
(演讲主题:Analysis of uniformity and reproducibility issues in production scale SiC epi reactor)—— 报告人:Dr.Roman Talalaev
④.15:40-16:20
(演讲主题:Modeling of MPCVD of diamond materials: from reactor design to crystal growth technology)—— 报告人:Dr.Anton Kobelev
⑤.16:20-17:00
(演讲主题:Future developments in crystal growth modeling)—— 报告人:Dr.Roman Talalaev
⑥.17:00-19:30
(晚宴)
茶歇、午休及晚宴准备期间可与我司专家在一楼休息室讨论问题!
07 酒店情况/Hotel Status
1.会议酒店:苏州独墅湖世尊酒店
豪华房大床/标间 价格700元
2.距离会议酒店1公里:苏州奥克伍德国际酒店公寓
大床房/标间 价格580元
3.距离会议酒店2.6公里:桔子苏州独墅湖高教区酒店
大床房/标间 价格477元
08 会议联系方式/Contacts
联系人:董锦
联系手机:15942028360