模拟MPCVD(微波等离子体辅助化学气相沉积)反应器中的SCD(单晶金刚石)生长的定制软件。

金刚石沉积建模工具DiaDeMo软件可根据以下建模步骤，对MPCVD（微波等离子体辅助化学气相沉积）反应器的设计特征和金刚石生长机制进行分析：

• 根据空腔和沉积体积的几何特征，在反应器内实现自洽的电场和等离子体密度分布。
• 考虑到基底支架、基座和腔体固体部分之间热间隙的详细几何形状，计算气体体积和表面的温度分布。
• MPCVD工艺条件下的中性物种密度和质量传输，基于反应物种CxHy之间在体积内发生化学反应的复杂机制。
• 基于反应物与HPHT种子和腔室壁相互作用的复杂机理，考虑基底支架、袋、基座等的任何细节，确定基底上的SCD生长率分布。

上图示例了软件中包含的所有必要的物理和化学过程模型。这样，用户就可以跳过指定所有电离和中性物种以及描述众多反应途径等漫长而复杂的阶段。用户只需设置系统的几何配置和运行参数，如热边界条件、电场功率、吸收功率、气体压力和流速。

下图示例： MPCVD 反应器中的电场分布

Left: Electric Field and Plasma Density Distribution in MSU Reactor B. Reactor Geometry: Jing Lu, PhD Thesis, MSU, 2013. Right: Plasma Density, Gas Temperature, CH₃ mole fraction, H mole fraction